Control of Oxygen Impurities in a Continuous-Feeding Czochralski-Silicon Crystal Growth by the Double-Crucible Method

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Numerical Modeling of Czochralski Silicon Crystal Growth

Modeling of heat transfer is presented for the entire Czochralski Si-growth furnace. The axisymmetric steady-state approach with moving computational grids is used. Melt turbulent flow, inert gas flow, heat transfer in solid parts, and radiative heat transfer in the system are considered. The Reynolds-averaged Navier-Stokes equations written with the Boussinesq approximation and the energy equa...

متن کامل

Development of Crystal Growth Technique of Silicon by the Czochralski Method

We report on the Czochralski method for single silicon crystal growth and discuss heat and mass transfer and defect formation in the crystal. A re ector was used for separation of the heating and cooling areas in the furnace enabling us to speed up crystal growth. The melt ow to stabilize the temperature distribution in a crucible was controlled using transverse magnetic elds in a large-scale s...

متن کامل

Crystal Temperature Control in the Czochralski Crystal Growth Process

This work proposes a control configuration and a nonlinear multivariable model-based feedback controller for the reduction of thermal gradients inside the crystal in the Czochralski crystal growth process after the crystal radius has reached its final value. Initially, a mathematical model which describes the evolution of the temperature inside the crystal in the radial and axial directions and...

متن کامل

control of the optical properties of nanoparticles by laser fields

در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...

15 صفحه اول

Defect Engineering During Czochralski Crystal Growth and Silicon Wafer Manufacturing

Single crystal silicon has played the fundamental role in electronic industry since the second half of the 20th century and still remains the most widely used material. Electronic devices and integrated circuits are fabricated on single-crystal silicon wafers which are produced from silicon crystals grown primarily by the Czochralski (CZ) technique. Various defects are formed in the growing cry...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Crystals

سال: 2021

ISSN: 2073-4352

DOI: 10.3390/cryst11030264